Tikslinė auditorija:Įmonių atstovai, neturintys patirties lustų gamybos procesų modeliavimo srityje, tačiau norintys geriau suprasti, kokie cheminiai ir technologiniai procesai lemia puslaidininkinių prietaisų veikimą ir kokybę.Mokymų santrauka: Šiuose mokymuose, per nanoHUB debesijos sistemą naudojant Silvaco TCAD programinį paketą, studentai ir įmonių atstovai nuosekliai supažindinami su pagrindiniais puslaidininkių technologiniais procesais bei jų modeliavimo principais. Mokymai apima dešimt laboratorinių darbų, kuriuose nuosekliai nagrinėjami integrinių grandynų gamybai būtini etapai: epitaksijos sluoksnių auginimas, oksidacija, priemaišų difuzija, jonų implantacija, fotolitografija, ėsdinimas, metalizavimas bei šių procesų taikymas KMOP tranzistoriaus struktūros formavimui. Kiekvienas laboratorinis darbas leidžia ne tik įgyti teorinių žinių, bet ir praktiškai, naudojant kompiuterinį modeliavimą, stebėti, kaip kinta puslaidininkinės struktūros savybės, priklausomai nuo pasirinktų technologinių parametrų. Ypatingas dėmesys skiriamas KMOP tranzistoriaus gamybos modeliavimo eigai – nuo pradinės silicio plokštelės paruošimo iki galutinės struktūros suformavimo bei gautų voltamperinių charakteristikų analizės. Mokymai suteikia išsamias žinias apie integrinių grandynų gamybos fiziką ir technologiją, ugdo gebėjimą naudotis šiuolaikinėmis kompiuterinio modeliavimo priemonėmis ir sudaro galimybes giliau suprasti puslaidininkių pramonėje taikomus technologinius sprendimus. Tai itin vertinga tiek studentams, siekiantiems įgyti praktinių mikro- ir nanoelektronikos įgūdžių, tiek įmonių specialistams, norintiems geriau suvokti, kokie cheminiai ir technologiniai procesai lemia puslaidininkinių prietaisų veikimą ir kokybę.